表一1,2比較了光微影(photolithography)、凹版印刷/柔版印刷(gravure/flexographic)、網印(screen printing)、熱壓印(Thermal imprint lithography)、紫外光壓印 (UV imprint)、噴墨(Inkjet)；由於紫外光壓印技術具有大的量產速、解析度高、成本低等優勢，已明確的被應用於軟性顯示器的圖案結構製程中，如Sipix電子紙的微杯結構、3M的增亮膜(BEF)、防偽全像圖案等。
表一、各種圖案結構技術比較1,2
如圖1所示為R2R紫外光壓印製程簡圖，捲材經由放捲機構將軟性基材經由R2R傳送控制，將軟性基材送至光阻塗佈區，均勻的塗上光阻後經過預先製做圖案結構之滾筒模板將圖案轉壓至光阻上，然後立刻以紫外光照射令光阻硬化後脫模，即可在軟性基材上得到具有圖案結構之硬化光阻膜；因為所要的圖案結構是由模板決定，因此只要變化不同的模板，即可得到相對應的薄膜。如圖中所示，抗眩結構、微杯結構、及其他微結構都可以用此方法大量生產。由於在微結構的成形過程，模板與欲成形的膜層有接觸的動作，因此容易因為接觸過程中模板-光阻-基材的相互作用影響製程的品質；其中最常發生的問題是，模板脫模性不佳導致硬光的光阻在脫模時部份結構撕裂後粘著在模板上，造成微結構複製率變差、缺隙或損壞，若處理不當模板可能因此損壞；另一種常發生的情況是軟性基材與硬化後的光阻附著力差，導致硬化光阻膜層在產品使用中自軟性基材整層或局部剝離。因此要得到好的結構圖案，並控制低的生產成本，控制模板-光阻-基材的相互作用力變得相當重要且必要。
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